高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

產(chǎn)品型號：Huace800G

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：北京市

更新日期：2024-10-25

產(chǎn)品簡介：

高真空退火爐可實(shí)現(xiàn)精度高，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

產(chǎn)品特性Product characteristics

品牌	華測

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹：

華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制操作！

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器原理：

原理為加熱絲或桂碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高的精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。

高真空退火爐的反射鏡是具有精度高的曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設(shè)備優(yōu)勢：

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制

過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式）此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

1、反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快。

2、可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度；

（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）大可設(shè)定32個程序、256個步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。

3、其他配置：

序號	項(xiàng)目	數(shù)量	品牌	備注
1	爐體	1	華測	大溫度1200℃
2	加熱源	1	GE
3	溫度控制器	1	華測
4	電熱偶	1	omega
5	溫控表	1	歐姆龍
6	穩(wěn)壓電源	1	華測	可定制
7	制冷水機(jī)	1	同飛	制冷功率8KW
8	分子泵	1	萊寶	CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa